一种湿法硅片清洗方法

出售价格

¥ 25708

卖家底价

¥ 21600

专利局官费

¥ 200

平台服务费

¥ 3908

注：上述费用仅包含专利权利转让费用，不包含专利年费或因年费未及时缴纳产生的滞纳金、恢复费。专利年费是专利权人依照专利法规定，自被授予专利权的当年开始，在专利权有效期内逐年应向专利局缴纳的费用。由于出售的专利类型、专利年限以及专利权人是否满足国家费用减缓的条件均会影响具体年费金额，需根据购买专利的实际情况进行缴纳。缴纳年费以及滞纳金、恢复费需单独和平台顾问确认且不属于下单后加价行为，故无法适用保障。

专利申请号：

CN201610464167.2

专利类型：

发明专利

技术分类：

H01L21/02

专利有效期：

2036-06-23

友情提示：该资源未保障“真” “价”，付款前请核实资源真实性与价格。

在线咨询

增值服务：

副本费

微信扫码邀请顾问协助

该资源已获得保障和赔付：
退

转让不成功退款
猪八戒数字市场承诺此服务在数字市场交易中，如转让不成功，将全额退款
转让不成功退款
时

转让超期必赔
猪八戒数字市场承诺此服务在数字市场交易中，如验收资料后超一个工作日递交转让申请，赔付100元
转让超期必赔

该资源未获得保障和赔付：
真

资源不保真必赔
猪八戒数字市场承诺此服务在数字市场交易中，如商标已售或权利瑕疵，除全额退款以外，再赔付100元
资源不保真必赔
价

下单后加价必赔
猪八戒数字市场承诺此服务在数字市场交易中，如卖家额外加价，除全额退款以外，再赔付300元
下单后加价必赔

专利信息

专利名称：一种湿法硅片清洗方法

商品编号：14108

复制

申请日期：2016-06-23

公开/公告号：CN105914137B

授权公告日/公开日：2019-07-26

申请/专利权人：北京***公司

发明/设计人：吕**

主分类号：H01L21/02

IPC分类号：H01L21/02; B08B3/04; B08B3/08; B08B3/10

说明书摘要免费下载摘要

本发明公开了一种湿法硅片清洗方法，包括以下步骤：步骤1、使用硫酸、过氧化氢和去离子水的混合溶液清洗硅片上的有机物和金属；步骤2、使用去离子水对硅片进行冲洗；步骤3、在50℃～60℃的温度下，使用***和水的混合物溶解硅片上的氧化层；步骤4、使用去离子水对硅片进行清洗；步骤5、在55℃～70℃的温度下，在使用SC‑1溶液对硅片进行清洗；步骤6、使用去离子水对硅片进行清洗；步骤7、在55℃～70℃的温度下，使用SC‑2溶液对硅片进行清洗；步骤8、使用HF溶液对硅片进行浸泡。本发明在清洗中使用了合适的温度范围，与现有的常温的湿法清洗技术相比，反应速率加快，则在相同的清洗程度之下，本发明所使用的***等有害化学物质减少。

转让流程