数字市场 专利库 一种用于抛光研磨中的离心污水处理装置

一种用于抛光研磨中的离心污水处理装置

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专利申请号
CN201820507218.X
专利类型
实用新型
技术分类
C02F1/38
专利有效期
2028-04-10
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专利信息
专利名称:一种用于抛光研磨中的离心污水处理装置
商品编号:14551
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申请日期:2018-04-10
公开/公告号:CN208182662U
授权公告日/公开日:2018-12-04
申请/专利权人: 南安***公司
发明/设计人: 冉阳***小刚
主分类号:C02F1/38
IPC分类号:C02F1/38
说明书摘要免费下载摘要

本实用新型公开了一种用于抛光研磨中的离心污水处理装置,其结构包括积水箱、支撑脚、处理箱、箱盖、把手、水管、焊接板、抽水泵、外壳、感应装置、合页、压力表、按钮、锁扣,按钮安装于锁扣上方,水管与抽水泵相嵌套,感应装置包括水位传感器、信号接收器、铁块、磁铁、复位弹簧、触点、支撑杆、接触点、固定板,水位传感器与信号接收器电连接,本实用新型一种用于抛光研磨中的离心污水处理装置,其结构上设有感应装置,通过水位传感器对积水箱进行感应,当污水过多时,将信号传送给信号接收器,使线圈通电从而使铁块产生大量磁力,将上方的磁铁向下拉,触碰到触点,由于下方设有支撑杆从而使触点另一端翘起与接触点相触碰,进行自动工作。

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