一种光学模铁磁共振增强的多层膜
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专利申请号:
CN201711160210.7
专利类型:
发明专利
技术分类:
H01F10/32
专利有效期:
2036-01-14
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专利信息
专利名称:一种光学模铁磁共振增强的多层膜
商品编号:5205270
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申请日期:2016-01-14
公开/公告号:CN107895624B
授权公告日/公开日:2020-01-10
申请/专利权人:
青**学
发明/设计人:
李山***俊哲
主分类号:H01F10/32
IPC分类号:H01F10/32; H01F41/18
说明书摘要免费下载摘要
本发明实施例公开了一种光学模铁磁共振增强的多层膜,该多层膜包括第一单轴磁各向异性层、非磁性隔离层和第二单轴磁各向异性层,第一单轴磁各向异性层和第二单轴磁各向异性层的易磁化轴方向一致,非磁性隔离层的厚度配置为使所述第一单轴磁各向异性层和所述第二单轴磁各向异性层反铁磁耦合。本发明实施例提供的一种光学模铁磁共振增强的多层膜中,两单轴磁各向异性层保证了在零偏置磁场下仍能沿着内生磁各向异性场保持磁损耗较小的铁磁共振;另外,层间反铁磁耦合作用,一方面使得具有相同易磁化轴方向的两单轴磁各向异性层的磁矩分别沿着相反方向的有效磁场进动;另一方面使得铁磁共振多层膜的光学模共振频率和磁导率大幅提高。
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