一种印刷大面积发光电化学池及其制备方法
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专利申请号:
CN201910499469.7
专利类型:
发明专利
技术分类:
H01L51/50
专利有效期:
2039-06-11
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专利信息
专利名称:一种印刷大面积发光电化学池及其制备方法
商品编号:5350128
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申请日期:2019-06-11
公开/公告号:CN110137368B
授权公告日/公开日:2021-02-26
申请/专利权人:
南京***学
发明/设计人:
赖文***黄维
主分类号:H01L51/50
IPC分类号:H01L51/50; H01L51/00; H01L51/56
说明书摘要免费下载摘要
本发明公开了一种印刷大面积发光电化学池及其制备方法,包括依次自下而上的铟锡氧化物导电玻璃、聚乙烯二氧噻吩层、发光活性层、金属电极。其制备方法包括以下步骤:将发光材料与电解质聚氧化乙烯,乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯,三氟甲磺酸锂混合溶解在溶剂中,配制成墨水;在覆盖了聚乙烯二氧噻吩膜的氧化铟锡基底上,通过麦勒棒将墨水印刷成膜,并进行退火处理;将基底冷却至室温后,转移到金属气相沉积系统的真空腔室中,蒸镀铝电极。通过后处理工艺参数调控墨水的二次流动,调控印刷湿膜厚度实现大面积发光薄膜的印刷,调控盐浓度以保证大面积发光电化学池良好的载流子迁移率。得到的发光电化学池综合性能优异,发光均匀、器件效率高。
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