数字市场 专利库 一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物及其制备方法和应用

一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物及其制备方法和应用

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专利申请号
CN202110696128.6
专利类型
发明专利
技术分类
-
专利有效期
2041-06-18
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专利信息
专利名称:一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物及其制备方法和应用
商品编号:6963086
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申请日期:2021-06-18
公开/公告号:CN113248650A
授权公告日/公开日:2021-08-13
申请/专利权人: 许**院
发明/设计人: 张**
主分类号:-
IPC分类号:C08F220/20;C08F220/60;C08F220/56;C08F220/04;C08F220/06;C08F2/44;C08K3/32;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;B01D15/08;C07C51/47;C07C57/03
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本发明公开了一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物及其制备方法和应用。以羟基磷灰石作为载体,两种不同低共熔溶剂分别作为功能单体和交联剂,并引入模板分子通过聚合反应、洗脱模板分子,即得分子印迹聚合物。该分子印迹聚合物以羟基磷灰石作为载体骨架,而印迹层均匀地分布在载体表面,不但解决了传统分子印迹聚合的印迹位点易被包埋的问题,同时有利于目标分子更容易到达印迹位点,因此吸附更快、吸附量更大,且该分子印迹聚合物易于根据目标分子来进行设计,可以广泛应用于复杂体系中目标分子的选择性识别和分离提取,且分子印迹聚合物的制备采用原料成本低、操作简单、对环境友好,易于大规模生产。

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